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電(diàn)感(gǎn)耦合(hé)等(děng)離子體發射光譜(pǔ)儀(yí)

產品(pǐn)簡介:電(diàn)感耦合等離子體(tǐ)發(fā)射光(guāng)譜儀:符(fú)合DB/T16477.3-2010 稀土矽鐵合金及鎂(měi)矽鐵合(hé)金化學(xué)分(fēn)析方(fāng)法(fǎ),和稀土(tǔ)行業標準:XB/T 612.2-2009 釹鐵硼(péng)廢料化學分析方(fāng)法(fǎ) 的技術要(yào)求---電感(gǎn)耦合(hé)等(děng)離(lí)子體(tǐ)光譜(pǔ)法(fǎ)

更(gēng)新(xīn)時(shí)間:2026-05-22
產品(pǐn)型(xíng)號:ICP-900
產品產地(dì):濟南
詳情介(jiè)紹
品牌(pái)精(jīng)測(cè)價格(gé)區(qū)間20萬(wàn)-50萬
儀器種類(lèi)順序(xù)掃描應(yīng)用(yòng)領(lǐng)域環(huán)保(bǎo),食品/農(nóng)產品,化(huà)工(gōng),生(shēng)物(wù)產業,農林牧(mù)漁

電(diàn)感(gǎn)耦合(hé)等離子體發射光(guāng)譜儀(yí):電感耦合等離(lí)子(zǐ)體(tǐ)發射(shè)光譜儀符合(hé)DB/T16477.3-2010 稀土矽(guī)鐵(tiě)合(hé)金及鎂(měi)矽鐵合(hé)金化(huà)學(xué)分(fēn)析方法,和稀土(tǔ)行業標準(zhǔn):XB/T 612.2-2009  釹鐵硼(péng)廢料(liào)化學(xué)分析方(fāng)法  的技術(shù)要求(qiú)---電(diàn)感耦合等(děng)離(lí)子(zǐ)體(tǐ)光譜(pǔ)法(fǎ) 。

應(yīng)用(yòng)範(fàn)圍(可(kě)分(fēn)析(xī)周(zhōu)期(qī)表中(zhōng)所(suǒ)有(yǒu)金屬元(yuán)素(sù)和(hé)部(bù)分(fēn)非(fēi)金屬元(yuán)素(sù))

1.鋼鐵(tiě)及其(qí)合金的分(fēn)析(xī):包括碳素(sù)鋼(gāng),鑄(zhù)鐵,合(hé)金鋼,高(gāo)純鐵,鐵(tiě)合金(jīn)等。

2.有色(sè)金(jīn)屬(shǔ)及其合金的分析:包(bāo)括(kuò)有(yǒu)色(sè)金屬及其合(hé)金(jīn),稀有(yǒu)金屬(shǔ)及其合金(jīn),貴(guì)金屬,稀土元(yuán)素(sù)及(jí)其化合物。

3.水質樣(yàng)品(pǐn)的(dí)分析:包(bāo)括(kuò)飲用水,地表水,礦(kuàng)泉(quán)水(shuǐ),高純水及廢水(shuǐ)等(děng)。

4.環(huán)境(jìng)樣品的(dí)分(fēn)析:包(bāo)括(kuò)固(gù)體廢(fèi)物(wù),土(tǔ)壤,粉煤(méi)灰(huī),大氣(qì)飄(piāo)塵(chén)等。

5.地礦(kuàng)樣(yàng)品的分(fēn)析(xī):包(bāo)括地質(zhì)樣(yàng)品(pǐn),礦石(shí)及(jí)礦物等(děng)。

6.動(dòng)植物(wù)及(jí)生(shēng)化樣品的分析(xī):包(bāo)括植物(wù),中(zhōng)藥及(jí)動物組(zǔ)織(zhī),生物化學樣品等。

7.核工業產品的分(fēn)析:包(bāo)括核燃料(liào),核材料等。

8.食品及飲料的(dí)分(fēn)析(xī):包(bāo)括食(shí)品(pǐn),飲(yǐn)料(liào)等。

9.化學化(huà)工產(chǎn)品(pǐn)的(dí)分(fēn)析:包(bāo)括化學試(shì)劑(jì)化工產品無機(jī)材(cái)料化(huà)妝(zhuāng)品油(yóu)類(lèi)等。

二,主要技術參(cān)數

射頻(pín)發(fā)生器(RF)
(1) 電(diàn)路類(lèi)型:電(diàn)感反饋式自激振蕩電(diàn)路(lù),同(tóng)軸(zhóu)電(diàn)纜(lǎn)輸出,匹配調諧,取功率(shuài)反饋,進行閉(bì)環(huán)自動控(kòng)製。
(2) 工(gōng)作(zuò)頻(pín)率(shuài):40.68MHZ±0.05%
(3) 頻(pín)率穩定(dìng)性:<0.1%
(4) 輸出(chū)功(gōng)率(shuài):800-1200w
(5) 輸(shū)出功率穩定性(xìng):≤0.3%
(6) 電磁場泄(xiè)漏射強度(dù):距機身30cm
  電(diàn)場強度(dù)E:<2V/m,磁(cí)場強度(dù)H:<0.2A
進(jìn)樣裝置:
(1) 輸出工(gōng)作(zuò)綫圈內徑25mm,3匝(zā)
(2) 炬(jù)管:三同心(xīn)Fassel型(xíng),外徑20mm的石(shí)英炬管(guǎn)
(3) 同(tóng)軸(zhóu)型(xíng)噴霧(wù)器外徑6mm
(4) 雙(shuāng)筒形霧室(shì)外徑(jìng)35mm
(5) 氬(yà)氣(qì)流計規格和載氣壓力表規格:
①, 等(děng)離子體流量計(100-1000)L/h ;(1.6-16L/min)
②, 輔助氣(qì)流(liú)量(liáng)計(10-100)L/h ;(0.16-1.66L/min)
③, 載(zǎi)氣流量計(10-100)L/h ;(0.16-1.66L/min)
④, 載氣(qì)穩(wěn)壓閥(fá)(0-0.4MPa)

測(cè)光裝(zhuāng)置(zhì):
(1) 光(guāng)電(diàn)倍增(zēng)管(guǎn)規格: R212UH
(2) 光電倍增管負高壓(yā):200-1000V ,穩定性(xìng)<0.05%
(3) 光(guāng)電(diàn)倍增管(guǎn)電流(liú)測量(liáng)範圍(wéi):10-12 -10-4A
(4) 信號(hào)采(cǎi)集(jí)為V/F交換(huàn):1mV對應100Hz

分光(guāng)器(qì):
(1) 光路: Czerny- Turner
(2) 焦(jiāo)距: 1000mm
(3) 光柵(zhà)規格(gé):離(lí)子刻(kè)蝕(shí)全息(xī)光(guāng)柵(zhà),刻綫(xiàn)密(mì)度(dù)2400綫(xiàn)/mm,

刻綫(xiàn)麵積(jī): 110×110mm,綫(xiàn)色(sè)散率倒數(shù):0.26nm
(4) 波長(cháng)範圍:190-500nm  
(5) 分辨(biàn)率(shuài): ≤0.01nm
(6) 掃描波長範(fàn)圍2400綫/mm 掃描波長範圍(wéi):190-800nm
(7) 步進電機驅動zui小步距:0.0005nm
(8) 入(rù)射狹縫(féng):20µm   出射狹(xiá)縫:25µm
(9) 發射鏡(jìng)規格:(105 × 105 × 16)mm
(10) 透(tòu)鏡(jìng)ф30,1:1成像

三(sān),檢測元(yuán)素(sù)及其(qí)檢出限。

四,產品特(tè)點(diǎn)

1.分析速(sù)度(dù)快(kuài)     一(yī)分鐘zui快(kuài)分析15個(gè)元素(sù)以(yǐ)上(shàng)

2.精密(mì)度(dù)高(gāo)        相對(duì)標準(zhǔn)偏差RSD≤1.5%

3.穩定性好(hǎo)        相(xiāng)對標準偏(piān)差RSD≤2.0%

4.檢出限(xiàn)低        μg∕L

 

留(liú)言(yán)框(kuàng)

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